光刻机！清华大学宣布：中国光刻机技术获新突破
日期:2021-03-01 19:17 阅读: 来源:科技在前方
现在中国国内光刻机是什么水平呢？是180nm水平，但是台积电、三星已经是5nm甚至开始3nm的研发，被寄以厚望的上海微电子即便是今年能够成功交付国产光刻机，那也只是28nm，这个先进光刻机，差了有点远。
于是国内期待“弯道超车”的心态就更加明显，比如华为刚发布一条光刻机的招聘就有传言说华为2万人“闭关修炼”只为光刻机，甚至中科院刚将光刻机列为任务清单，就传来光刻机即将突破。
而近期清华大学传来一个消息，让不少网友看到了希望，可尴尬的问题还是来了！
清华大学攻克光刻机核心技术！
清华大学近期公开一项研究，研发出了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB），什么意思呢？
就是清华大学找到了一种别样的光源，而这个光源是优于此前EUV光刻机所采用的光源。
我们都知道光刻机更多的是像一把“刻刀”，所采用的光源极为重要，如今是5nm、3nm今后对光源的要求也就越来越高！
而清华大学的这一次突破，是找到了具有高功率、高重频、窄带宽的特性光源，这将大大提升造芯的效率和质量。
尽管来说现在这项技术还在实验室，但依然值得为这些科研工作者点赞。
国产光刻机的尴尬点在于什么？
国内是近些年才入局光刻机的吗？并不是，早在1956年我们就开始入局半导体领域，而在光刻机方面也是取得了不小的成绩，那个时候荷兰ASML公司还没有成立。
但是即便是入局早、有成绩，还是经不住“造不如买”的思想，于是就那么搁置了。
其实早在2015年的时候就有消息称国产光刻机曾经送给国内一家晶圆厂，但是后来这个光刻机在厂房闲置，都落满了灰。
为啥不用？是不想用吗？其实并不是，而是前面我们提到的生态，一台国产光刻机和其他供应关系替换，这就像拿B型血给A型血的人输血，这，很难！
虽然新型粒子加速器光源（SSMB）还在实验阶段，但值得肯定的是，一旦持续的对技术进行攻关和上下游产业链配合获得成功，就有望解决中国在光刻机领域被“卡脖子”的难题。同时，这也将大大提升国产EUV光刻机自研的步伐。
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